Tantalum Crucibles For E-Beam Sources high quality
1/
Tantalne tagle za E-izvore zraka
Tantalne lončiće za izvore E-zraka su precizno-konstruirani kontejneri koji se koriste u sistemima za isparavanje elektronskih zraka, gdje su visoka termička stabilnost i ultra-nisko ispuštanje plinova neophodni za održavanje integriteta vakuuma i čistoće depozita.
Pošaljite upit
Opis
Tehnički parametri
Uloga tantalskih lončića u isparavanju elektronskih zraka
Tantalne lončiće za izvore E-zraka su precizno-konstruirani kontejneri koji se koriste u sistemima za isparavanje elektronskih zraka, gdje su visoka termička stabilnost i ultra-nisko ispuštanje plinova neophodni za održavanje integriteta vakuuma i čistoće depozita.
Kod taloženja E-zraka, fokusirani snop elektrona isparava izvorni materijal unutar lončića, a rezultirajuća para se kondenzira na podloge u obliku tankih filmova. Tantal je odabran jer njegova visoka tačka topljenja dozvoljava isparavanje vatrostalnih metala (npr. W, Mo, Ta) i oksida bez kvara lončića. Njegov nizak pritisak pare na radnim temperaturama (<10⁻⁸ Pa at 2500 °C) prevents crucible material from contaminating the deposited film. Additionally, tantalum's low outgassing rate (<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²) helps sustain UHV conditions (<10⁻⁷ Pa) crucial for high‑performance optics and semiconductor coatings.
Nekretnina
Vrijednost / Raspon
Važnost u radu izvora E-zraka
Tačka topljenja
3017 stepeni
Omogućava isparavanje materijala visoke{0}}tačke tačke topljenja
Pritisak pare @ 2500 stepeni
<10⁻⁸ Pa
Eliminiše kontaminaciju pare lonaca
Stopa ispuštanja gasova (UHV)
<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²
Održava kvalitet vakuuma za čiste naslage
Toplotna provodljivost
57 W/m·K
Osigurava ravnomjerno grijanje i smanjuje vruće tačke
Razmatranje dizajna za E-Beam Tantalne lonce
Lonci se proizvode sa tankim zidovima (1-3 mm) kako bi se maksimizirao prijenos topline iz elektronskog snopa uz minimiziranje uskladištene toplinske mase. Geometrija je često cilindrična sa zaobljenim dnom kako bi se izbjegli oštri uglovi gdje bi rastopljeni materijal mogao stagnirati ili se lokalno pregrijati. Kako bi se oduprli oštećenju od elektrona visoke{4}}energije, neki dizajni uključuju vodeno hlađene omote ili koriste lončiće sa prilagođenom orijentacijom zrna za ravnomjernu raspodjelu udara elektrona.
Slučajevi industrijske upotrebe za E-Beam Tantalne lončiće
Optical Coating – Isparavanje TiO₂, Al₂O₃ i SiO₂ za sočiva i laserska ogledala koja zahtijevaju kontrolu visokog indeksa prelamanja.Mikroelektronika – Taloženje slojeva barijere (npr. TaN) i metala za međusobno povezivanje gdje čistoća direktno utiče na pouzdanost uređaja.Display Technology – Ujednačeno isparavanje indijum kalaj oksida (ITO) za prozirne provodljive premaze.Njihova kompatibilnost sa automatizovanim sistemima za dovod i dug radni vek čine ih standardnim u visokopropusnim komorama za premazivanje za arhitektonsko staklo, preciznu optiku i napredne elektronske podloge.
Materijal za isparavanje 99,95% 3N5 tantal lončić za isparivač elektronskim snopom
Postrojenje za preradu dijelova tantala prilagođeno različitim veličinama svijetlo sivi tantalski lonac za dijelove procesa topljenja
Prilagođeno R05200 Ta 99,95% čisto polirani tantal lončić tantal karbid po kg cijena
